溅射靶材的要求较传统材料行业高,一般要求如,尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制;较高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物(氧化物)含量与尺寸、导磁率、*高密度与*细晶粒等等。磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,就是用电子系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上,使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。 溅射靶材有金属,合金,陶瓷化合物等。
我公司金靶 自有车间生产,技术层面与东北大学合作,所以生产质量有所**。
金靶概况:金是一种化学元素,化学符号是Au。 原子序数是79。性状:金是一-种过渡金属,
在溶解后可以形成三价及价正离子。金与大部分化学物都不会发生化学反应,但可以被氯、氟、王水侵蚀。外观:金黄规格:丝状:中0.5至3mm, .片状: 0.1 至10mm,粉末状: -200目。纯度: 3N 4N 5N 。分子量: 196.9665,密度: 19.32 g/cm3
熔点: 1062℃。蒸发条件:钼舟,钨舟,舟蒸发,电子蒸发。
产地:沈阳市
较少起订量: 1片,量大优惠
供货能力:同批次,同材质,持续可靠供应: 100kg/月
交货期:单片材料1周内发货,批量材料10天-15天内发货(工作日)
制作工艺:真空磁悬浮熔炼,浇铸成锭,热机械处理和精密机械加T
适用仪器:各类型号磁控溅射设备等
产品用途:工业级镀膜,实验或研究级别用金靶材,电子,光电,jun用,装饰,功能薄膜等 产品优点:质量可靠,价格优惠,还原法制备, 纯度高,杂质少,轧制致密,氧化少,成型可塑,相对致密度高,晶粒均匀等轴,致性高
产品附件:正式报价单/购销合同装箱单/材质分析检测单/正规发票
包装方式:真装/真kong中性包装/特殊包装外加固包装
运输方式:国内快递承运(顺丰)
常规靶材生产工艺为:铸锭(感应电溶解电子束熔炼法连续铸造)→→成型(锻造→热轧或冷轧→拉伸)→→热处理(均质化,再烧结)→→精密机械加工(切削,铣,车,磨,刨)→→与背板结合(软焊,扩散焊)→→检测(超声波,X光射线探伤)→→包装运输
以下只是我们为了不同类型客户方便而定制的常规尺寸规格,我们可以为客户定制与以下形状,规格尺寸,公差要求,纯度等都不同的产品。
产品名称 规格尺寸 产品纯度
金丝(Au) φ0.001mm-1.0mm 3N 4N 5N
金丝(Au) φ 1.0mm- 3.0mm 999% 3N 4N 5N
金粒(Au) φ2*5mm orφ2* 10mm 3N 4N 5N
金粒(Au) φ3*3mm or φ 3*5mm 3N 4N 5N
金片(Au) T 0.10mm- -T 2mm 3N 4N 5N